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    對(duì)于只含單一元素的樣品的分析。通常并不困難，但如果樣品中含有某些共存離子時(shí)，則常常需要采用分離或掩蔽方法以消除干擾因素。在分析實(shí)踐中，倘應(yīng)用掩藏方法來消除干擾。則必須合理地選擇掩蔽劑，必須考慮這種掩蔽劑的掩蔽能力和合理估計(jì)掩蔽劑的用量，這看起來似乎非常簡單，但實(shí)際上由于影響因素很多，體系平衡的定量處理迄今仍很困難，因此掩蔽劑的使用在很大程度上是經(jīng)驗(yàn)性的．選擇使用掩蔽劑的一般原則是：

（1）掩蔽劑與干擾離子所形成的各合物的穩(wěn)定常數(shù)必須足夠地高．與其相反，與被測(cè)離子形成的絡(luò)合物的穩(wěn)定常數(shù)應(yīng)盡可能低．

（2）掩蔽反應(yīng)的速度應(yīng)當(dāng)足夠地快．

（3）掩蔽產(chǎn)物最好是無色的或淺色的，且在水中有足夠大的溶解度。

（4）所選用的掩蔽劑最好是低毒或無毒的．

此外，對(duì)于不同方法來說著重考慮的因素也各有側(cè)重．例如在絡(luò)合滴定中，掩蔽劑的加入應(yīng)不影響絡(luò)合反應(yīng)的進(jìn)行和滴定終點(diǎn)的判斷；在分光光度法中，掩蔽反應(yīng)的產(chǎn)物與被測(cè)離子的呈色絡(luò)合物應(yīng)不具有相似的或部分重疊的吸收峰，最好在測(cè)定波長下，被掩蔽離子的絡(luò)合物對(duì)于人射光線無明顯吸收，在重量分析中，掩蔽劑的加入除了不增大被測(cè)沉淀的溶解度外，主要是不允許掩蔽產(chǎn)物與被測(cè)離子產(chǎn)生共沉淀現(xiàn)象．與此類似的是在離子交換分離中，被掩蔽的離子與被測(cè)離子對(duì)于離子交換樹脂的性質(zhì)的分離特征必須不同等等．但是，為了更便于我們選擇適當(dāng)?shù)难诒蝿┖凸纼r(jià)掩蔽劑用量，應(yīng)用一個(gè)簡單的數(shù)學(xué)運(yùn)算方法進(jìn)行判斷，仍然是很有必要的。

    由于絡(luò)合掩蔽劑是分析工作中使用最廣的一類掩蔽劑，金屬陽離子的被掩蔽是否完以從絡(luò)合劑與有關(guān)陽離子形成絡(luò)合物的有效穩(wěn)定常數(shù)（K_ML^有效）：來計(jì)算．如果反應(yīng)產(chǎn)物為沉淀時(shí)，則可以從沉淀的溶度積的大小來作出結(jié)論。
    假若被測(cè)金屬離子為M，分析試劑和掩蔽劑分別為L和T，如果反應(yīng)中金屬離子與x個(gè)分析試劑及與p個(gè)掩蔽劑配位形成單核絡(luò)合物時(shí)。那么它們的有效穩(wěn)定常數(shù)可分別表示如下：

(K_MLx^有效)_H=ML_x/[M][L]^x
(K_MTp^有效)_H=MT_p/[M][T]^p

    倘在同一溶液中同時(shí)存在分析試劑L和掩蔽劑T時(shí)，而此時(shí)金屬離子的濃度［M］是相同的，那么，上述兩個(gè)方程式可轉(zhuǎn)化為：

[T]^p/[L]^x=[(K_MLx^有效)_HMT_p]/{(K_MTp^有效)_H[ML_x]}

    由此關(guān)系式可計(jì)算出分析試劑與掩蔽劑所必須保持的濃度比。一般來說，加入掩蔽劑后對(duì)于分析反應(yīng)來說其干擾影響不應(yīng)超過0．1％，那么在此條件下：

［ML_x］≥［MT_p］×10³
或          [T]^p/[L]^x=(K_MLx^有效)_H/(K_MTp^有效)_H×10^-3

    但是，必須注意到，絡(luò)合物［ML_x］和［ML_p］的濃度與［L］和［T］濃度之間的關(guān)系取決于相應(yīng)試劑中配位基的個(gè)數(shù)（即x與p值）．例如金屬離子與分析試劑及掩蔽劑均形成正八面體絡(luò)合物掩蔽劑是含單配位基的試劑，即p＝6，而分析試劑是具有二個(gè)配位基的試劑時(shí)，則x＝3，在確定了p和x值之后，如(K_MLx^有效)_H和(K_MTp^有效)_H之值也是已知的話，那么［T］和［L］濃度之比值便可確定．通常，游離掩蔽劑的濃度不宜超過必須使用的濃度很多，只須控制在合理的范圍內(nèi)即可。
    在選擇掩蔽劑時(shí)，除應(yīng)注意主試劑與掩蔽劑的反應(yīng)性能和用量外，溶液中的pH值，pM值，干擾離子的存在狀態(tài)，反應(yīng)速度，溫度以及溶劑的性質(zhì)等亦是常常需要考慮的因素．盡管如此，在實(shí)際分析中，人們總還是希望能找出某種簡單的數(shù)學(xué)計(jì)算作為掩蔽劑掩蔽能力的判斷方法．在此推薦下述方法作參考．為估計(jì)一個(gè)體系中的主反應(yīng)和掩蔽反應(yīng)進(jìn)行的趨勢(shì)，可根據(jù)所謂選擇性比（SP）和掩蔽比（MP）的如下關(guān)系式來考察：

選擇性比（SP）＝（pM_p）²/pM_m
掩蔽比（MP）＝（pM_m）²/pM_p

式中pM_p和pM_m分別表示從金屬一一主試劑絡(luò)合物和金屬——掩蔽劑絡(luò)合物中離解出來的金屬離子濃度的負(fù)對(duì)數(shù)，一般認(rèn)為當(dāng)（pM_p）²／pM_m＞7時(shí)，則主反應(yīng)占優(yōu)勢(shì)．低于比值時(shí)則拖蔽反應(yīng)占優(yōu)勢(shì)，上式中的pM伯可從表觀穩(wěn)定常數(shù)計(jì)算出，例如Ca²⁺，Mg²⁺離子性質(zhì)相近，且經(jīng)常伴生在一起，如應(yīng)用1，2－環(huán)己二胺－N，N，N'，N'－四乙酸（ CyDTA）絡(luò)合滴定測(cè)定鎂時(shí)，鈣的干擾可用二－（氨基乙基）乙二藤－N，N，N'，N'－四乙酸（EGTA）掩蔽之，從一般工具書查得：

Ca²⁺+CyDTA ? Ca-CyDTA        logK=12.1
Ca²⁺+EGTA ? Ca-EGTA       logK=11.0

若設(shè)其絡(luò)合物濃度均為1M，此時(shí)

pM_p=6.05        pM_m=5.5
SP=(pM_p)²/pM_m=6.6<7

這表示在掩蔽劑EGTA存在下，主試劑CyDTA不能與Ca²⁺離子反應(yīng)，即Ca²⁺離子已被掩蔽，對(duì)于Mg²⁺離子來說：

Mg²⁺+ CyDTA ? Mg-CyDTA        logK=10.3
Mg²⁺+EGTA ? Mg-EGTA        logK=5.21
SP=(pM_p)²/pM_m=10.2﹥7

這說明主試劑與Mg²⁺離子的反應(yīng)不受掩蔽劑的影響，上述計(jì)算結(jié)果與實(shí)際情況是相符合的．當(dāng)然，這只是一種較粗略的方法，在某些體系中并不都是足夠準(zhǔn)確的。